據(jù)報(bào)道,臺(tái)積電即將于2025年量產(chǎn)2nm制造工藝的晶圓產(chǎn)品,市場(chǎng)看好進(jìn)度可望領(lǐng)先對(duì)手三星及英特爾。據(jù)悉臺(tái)積電2nm廠將落地竹科寶山二期擴(kuò)建計(jì)劃,“竹科管理局”已展開公共設(shè)施建設(shè),臺(tái)積電2nm廠也開始進(jìn)行整地作業(yè)。
目前臺(tái)積電先進(jìn)制程進(jìn)展順利,3nm將在今年下半年量產(chǎn),升級(jí)版3nm(N3E)制程也將于3nm量產(chǎn)一年后量產(chǎn),2nm預(yù)計(jì)于2025年量產(chǎn)。臺(tái)積電2nm首次采用納米片架構(gòu),相較N3E制程,在相同功耗下頻率可提升10%至15%,在相同頻率下功耗則降低25%至30%。
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責(zé)任編輯:莊婷婷
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